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Glove permeation by propylene glycol monomethyl ether acetate. A photoresist solvent used in semiconductor device processing.
(Perméabilité des gants de protection à l'acétate de l'éther monométhylique de propylèneglycol utilisé dans le traitement des semi-conducteurs).
Article
Publié dans : Applied Occupational and Environmental Hygiene, Etats-Unis, vol. 7, no 6, juin 1992, pp. 392-397, ill., bibliogr. (En anglais)
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