Glove permeation by propylene glycol monomethyl ether acetate. A photoresist solvent used in semiconductor device processing. = (Perméabilité des gants de protection à l'acétate de l'éther monométhylique de propylèneglycol utilisé dans le traitement des semi-conducteurs).. 6. 7 | ZELLERS E.T.
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Glove permeation by propylene glycol monomethyl ether acetate. A photoresist solvent used in semiconductor device processing.


(Perméabilité des gants de protection à l'acétate de l'éther monométhylique de propylèneglycol utilisé dans le traitement des semi-conducteurs).


Article

ZELLERS E.T. | SULEWSKI R.

Publié dans : Applied Occupational and Environmental Hygiene, Etats-Unis, vol. 7, no 6, juin 1992, pp. 392-397, ill., bibliogr. (En anglais)

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