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Exposition des porteurs d'implants médicaux actifs aux champs électromagnétiques 50 Hz.
Extrait de : Rayonnements optiques et électromagnétiques au travail. De l'exposition à la prévention. Chapitre 3. Etudes de cas. Colloque. Paris, 20-22 octobre 2015.
Article
Publié dans : Hygiène et sécurité du travail, hors-série, décembre 2016, pp. 146-150, ill., bibliogr.
Cet article fait partie du chapitre 3 " Etudes de cas " du Colloque " Rayonnements optiques et électromagnétiques au travail. De l'exposition à la prévention ", organisé par l'INRS, du 20 au 22 octobre 2015 à Paris (référence INRS-Biblio : 00091694). La multiplication des sources de champs électromagnétiques (CEM) du monde moderne, associée au développement de dispositifs médicaux implantables actifs (DMIA), augmente le risque d'interférences électromagnétiques, entraînant un dysfonctionnement plus ou moins grave des DMIA. Or, c'est en milieu professionnel que se trouvent les sources de CEM les plus importantes. L'article décrypte une méthode d'évaluation individualisée des risques encourus par le travailleur aux CEM 50 Hz qui a été mise au point par EDF à travers deux études de cas.
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