A model for assessing occupational exposure to extremely low-frequency magnetic fields in fabrication rooms in the semiconductor health study.


(Un modèle pour l'évaluation de l'exposition professionnelle aux champs magnétiques extrêmement basse fréquence lors de la production de semi-conducteurs).


Article

ABDOLLAHZADEH S. | HAMMOND S.K. | SCHENKER M.B.

Publié dans : American Journal of Industrial Medicine, Etats-Unis, vol. 28, n° 6, décembre 1995, pp. 723-734, ill., bibliogr. (En anglais)

Suggestions

Du même auteur

Estimation of the diesel exhaust exposures of railroad workers. I. Current expos...

Article | WOSKIE S.R. | 1988

Assessment of extremely low frequency (ELF) electric and magnetic fields in micr...

Article | ROSENTHAL F.S. | 1991

Pour préparer l'étude épidémiologique du rôle des champs dans l'apparition de leucémies, des mesures portant surtout sur les champs magnétiques, plus faciles à apprécier au voisinage des sources, ont été réalisées avec un compteur...

Characterization of endotoxin collected on California dairies using personal and...

Article | GARCIA J. | 2012

Les auteurs ont analysé les endotoxines présentes dans les particules (PM) recueillies dans 13 laiteries de Californie et dans la zone respiratoire de 226 travailleurs pendant les mois d'été de 2008. Deux tailles de particules ont...

Chargement des enrichissements...