A model for assessing occupational exposure to extremely low-frequency magnetic fields in fabrication rooms in the semiconductor health study.


(Un modèle pour l'évaluation de l'exposition professionnelle aux champs magnétiques extrêmement basse fréquence lors de la production de semi-conducteurs).


Article

ABDOLLAHZADEH S. | HAMMOND S.K. | SCHENKER M.B.

Publié dans : American Journal of Industrial Medicine, Etats-Unis, vol. 28, n° 6, décembre 1995, pp. 723-734, ill., bibliogr. (En anglais)

Suggestions

Du même auteur

Estimation of the diesel exhaust exposures of railroad workers. I. Current expos...

Article | WOSKIE S.R. | 1988

Assessment of extremely low frequency (ELF) electric and magnetic fields in micr...

Article | ROSENTHAL F.S. | 1991

Pour préparer l'étude épidémiologique du rôle des champs dans l'apparition de leucémies, des mesures portant surtout sur les champs magnétiques, plus faciles à apprécier au voisinage des sources, ont été réalisées avec un compteur...

Self-reported stress and reproductive health of female lawyers.

Article | SCHENKER M.B. | 1997

Chargement des enrichissements...