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Assessment of extremely low frequency (ELF) electric and magnetic fields in microelectronics fabrication rooms.
(Evaluation des champs électriques et magnétiques extrêmement basse fréquence dans les ateliers de microélectronique).
Article
Publié dans : Applied Occupational and Environmental Hygiene, Etats-Unis, vol. 6, no 9, septembre 1991, pp. 777-784, ill., bibliogr. (En anglais)
Pour préparer l'étude épidémiologique du rôle des champs dans l'apparition de leucémies, des mesures portant surtout sur les champs magnétiques, plus faciles à apprécier au voisinage des sources, ont été réalisées avec un compteur modèle 120 ELF (30-3000 Hz) dans 4 ateliers de fabrication de semi-conducteurs. A 5 cm des surfaces des appareils, les champs magnétiques vont de 5 à 400 mG ; à 60 cm, les niveaux vont de 0,5 à 70 mG. Ces valeurs, combinées aux informations sur les postes de travail, ont permis d'estimer les expositions moyennes pondérées sur 8 heures dans différentes conditions.
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