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The limits of detection for the monitoring of semiconductor manufacturing gas and vapor emissions by Fourier transform infrared (FTIR) spectroscopy.
(Limites de détection pour le contrôle des concentrations de gaz et de vapeurs émises lors de la fabrication de semi-conducteurs par spectroscopie infrarouge à transformée de Fourier (FTIR)).
Article
Publié dans : American Industrial Hygiene Association Journal, Etats-Unis, vol. 50, no 2, février 1989, pp. 78-84, ill., bibliogr. (En anglais)
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