Elastomeric, half-facepiece, air-purifying respirator performance in a lead battery plant.


(Performance d’un appareil de protection respiratoire en élastomère, demi-masque, purificateur d'air dans une usine de batteries au plomb).


Article

JANSSEN L. | McCULLOUGH N.V.

Publié dans : Journal of Occupational and Environmental Hygiene, Etats-Unis, vol. 7, n° 1, janvier 2010, pp. 46-53, ill., bibliogr. (En anglais)

Cette étude des facteurs de protection (WPF) d'un appareil de protection respiratoire demi-masque purificateur d'air équipé de filtres P100 a été réalisée dans une usine de fabrication de batteries au plomb. Des échantillons d'air ont été recueillis à l'intérieur et l'extérieur du masque. Sur les 45 jeux d'échantillons retenus, 4 seulement présentaient des niveaux détectables de plomb dans l'échantillon d’air intérieur. Les facteurs facteurs de protection ont été calculés en divisant la concentration en plomb de l'échantillon extérieur (Co) par la concentration à l'intérieur (Ci). Pour les 41 autres paires d'échantillons, la limite de détection du plomb a été utilisée pour calculer un maximum de concentration estimé Ci. Le Co pour chacune de ces paires d'échantillons a été divisé par le Ci estimé afin d’obtenir une valeur minimale de WPF. Tous les WPFs ont été arrondis à deux chiffres significatifs, résultant en des valeurs allant de 12 à plus de 2 500. Il en est résulté un 50e percentile de 270 WPF et une estimation du 5e percentile > 50. Ces WPFS dépassent le facteur de protection de 10 assigné pour les demi-masques par l'Occupational Safety and Health Administration. Les résultats de cette étude sont cohérents avec le facteur de protection assigné (APF) de 10 et indiquent que le respirateur testé a fourni une protection appropriée dans les conditions d’utilisation de cette étude. La comparabilité des deux méthodes d'analyse couramment utilisées conjointement dans les études de WPF a également été évaluée. Les échantillons prélevés en dehors du respirateur ont été analysés pour le plomb par émission d’un rayon X induite par des protons (PIXE) suivie d’une analyse par spectrométrie couplée à un plasma inductif (ICP). Alors que les deux méthodes étaient fortement corrélées (r2 = 0,965), la masse moyenne de plomb PIXE était environ 45% plus élevée que la valeur moyenne ICP. Ce biais systématique a été expliqué par les hypothèses utilisées pour interpréter les résultats analytiques PIXE. Lorsque des études WPF utilisent les méthodes ICP et PIXE pour des échantillons Co et Ci, respectivement, les valeurs WPF calculées constituent des estimations prudentes des performances des respirateurs.

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