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Release of arsenic from semiconductor wafers.


(Emission d'arsenic par les plaquettes de silicium lors de la fabrication de circuits intégrés).


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UNGERS L.J. | JONES J.H. | McINTYRE A.J. | McHENRY C.R.

Publié dans : American Industrial Hygiene Association Journal, Etats-Unis, vol. 46, no 8, août 1985, pp. 416-420, ill., bibliogr. (En anglais)

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