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Afficher la couverture 'Monitoring of low level arsenic exposure during maintenance of ion implanters. = (Surveillance de l'exposition à de faibles doses d'arsenic lors d'opérations de maintenance sur des implantateurs ioniques).. 5. 55 | HWANG Y.H.' en grand format
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Monitoring of low level arsenic exposure during maintenance of ion implanters.


(Surveillance de l'exposition à de faibles doses d'arsenic lors d'opérations de maintenance sur des implantateurs ioniques).


Article

HWANG Y.H. | CHEN S.C.

Publié dans : Archives of Environmental Health, Etats-Unis, vol. 55, n° 5, septembre-octobre 2000, pp. 347-354, ill., bibliogr. (En anglais)

Les auteurs ont évalué l'exposition à l'arsenic de travailleurs affectés à l'implantation ionique dans des usines de semi-conducteurs. L'exposition à l'arsenic a été étudiée grâce à des prélèvements d'atmosphère et de peau, des dosages d'urine et grâce à l'analyse des vêtements et des gants utilisés. Les taux d'arsenic mesurés dans les prélèvements d'air ambiant étaient très faibles, par contre, des taux élevés d'arsenic ont été trouvés dans les échantillons cutanés, les vêtements et les gants et les échantillons d'urine. Les conclusions de cette étude montrent que l'arsenic entrant dans l'organisme par ingestion plutôt que par inhalation pourrait jouer un rôle significatif dans l'augmentation des taux urinaires d'arsenic.

  • Mots-clés
  • Description
N° de notice
32311
Langue
anglais
Année
2000
Pagination
pp.347-354.
Autre
ill., bibliogr.
Descripteurs
ARSENIC
SEMI-CONDUCTEUR

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