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An occupational exposure assessment for engineered nanoparticles used in semiconductor fabrication.
(Evaluation de l'exposition professionnelle aux nanoparticules manufacturées utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs).
Article
Publié dans : Annals of Occupational Hygiene, Royaume-Uni, vol. 58, n° 2, mars 2014, pp. 251-265, ill., bibliogr. (En anglais)
Une approche multimétrique a été utilisée pour évaluer l'exposition des travailleurs et caractériser les aérosols dans une installation utilisant des nanoparticules d'alumine (Al), d'oxyde de cérium et de silice amorphe (Si) pour le polissage mécanico-chimique. Les résultats suggèrent que des aérosols de nanoparticules (< 100 nm) n'ont pas été libérés ou n'ont pas été dispersés dans une large mesure au cours des tâches de travail étudiées. Des particules contenant Al et/ou Si ont été identifiées, principalement dans les intervalles de taille de 100 à 500 nm et 500 à 1 000 nm pour la plupart des échantillons. Bien que cette méthode ne soit pas validée actuellement et qu'elle nécessite un niveau élevé de ressources pour l'analyse, elle fournit des données essentielles sur la composition, la taille et la morphologie des particules pour évaluer l'exposition, et les résultats peuvent également être utilisés pour calculer la zone de surface des particules. Les concentrations massiques de particules étaient en étaient en dessous de la limite de détection pour cette étude, cependant, ces méthodes et les données qui en résultent sont utiles pour permettre la comparaison à une valeur de référence basée sur la masse. Les résultats de cette étude confirment les conclusions antérieures démontrant la nécessité d'une approche multimétrique. Des recherches complémentaires sont en cours pour étudier les rejets potentiels, les expositions et les pratiques de gestion des risques à d'autres étapes du cycle de production.