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A comprehensive review of arsenic levels in the semiconductor manufacturing industry.
(Etude approfondie des taux d'arsenic dans l'industrie de fabrication des semi-conducteurs).
Article
Edition : , Royaume-Uni, vol. 54, n° 8, novembre 2010, pp. 869-879, ill., bibliogr. (En anglais)
Ce document fait une synthèse des statistiques des taux d'arsenic contenus dans deux types d'échantillons (prélèvements dans l'air et par essuyage de surfaces contaminées) à partir d’études menées lors de la fabrication de semi-conducteurs. Les principaux objectifs de cette étude étaient de décrire les données de mesure de l'arsenic, et aussi, à travers une revue de la littérature, de classer les personnels en fonction des niveaux d'arsenic observés. Toutes les mesures d’arsenic dans l'air rapportées ont été incluses dans les statistiques globales pour l'analyse des données de mesure. La moyenne arithmétique a été estimée en supposant une distribution log-normale à partir de la moyenne géométrique et l'écart-type géométrique ou l’étendue. Les moyennes arithmétiques pondérées (WAMs) ont été calculées sur la base du nombre de mesures rapportées pour chaque moyenne. L'analyse de la variance par la technique ANOVA a été réalisée pour comparer les niveaux d'arsenic classés selon plusieurs catégories, telles que l'année, le type d'échantillonnage, le site d’échantillonnage, le type d'opération, et la technique de nettoyage. Neuf documents rapportant des données de mesures de l’arsenic dans l’air, auprès de travailleurs d'entretien ou sur des zones de maintenance d’installations de fabrication de semi-conducteurs, ont été sélectionnés. Un total de 40 sommaires de statistiques issus de sept articles a été identifié, représentant un total de 423 mesures d'arsenic dans l'air. Les niveaux d'exposition à l’arsenic évalués pendant les activités normales lors des opérations d'implantation ionique (WAM = 1,6 microg/m3, nombre d'échantillons = 77, nombre de résumés statistiques = 2) se sont avérés être plus bas que les niveaux d'exposition des ingénieurs participant aux travaux d'entretien (7,7 microg/m3, nombre d'échantillons = 181, nombre de résumés statistiques = 19). Le niveau le plus élevé (WAM = 218,6 microg/m3) était associé aux divers travaux de maintenance effectués à l’intérieur d’une chambre d'implantation ionique. L’analyse ANOVA n'a pas révélé de différences significatives dans les niveaux WAM d'arsenic parmi les classements basés sur les caractéristiques de fonctionnement et d'échantillonnage. Les taux d'arsenic enregistrés au cours des travaux d'entretien effectués par voie sèche (56,4 microg/m3) étaient beaucoup plus élevés que ceux des travaux de maintenance effectués par voie humide (0,6 microg/m3). Les niveaux d'arsenic des échantillons recueillis par essuyage suite à des activités de maintenance variaient de non décelables à 146 microg/cm2, indiquant la possibilité de dispersion dans l'air et donc d'inhalation. En conclusion, les travailleurs qui sont régulièrement ou occasionnellement impliqués dans les travaux d'entretien ont un potentiel d'exposition professionnelle plus élevé que ceux qui sont employés à la production de routine. De plus, les travailleurs de la fabrication peuvent être classés en deux groupes en fonction des taux d’exposition à l'arsenic: les opérateurs exposés à de faibles taux et les ingénieurs de maintenance exposés à des taux élevés. Ces classifications pourraient être utilisées comme base pour un classement ordinal qualitatif de l'exposition dans des études épidémiologiques.