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Effect of occupational safety measures on micronucleus frequency in semiconductor workers.
(Effets des mesures de sécurité sur la fréquence des micronoyaux chez des salariés de l'industrie des semiconducteurs).
Article
Publié dans : International Archives of Occupational and Environmental Health, RFA, vol. 81, n° 4, février 2008, pp. 423-428, ill., bibliogr. (En anglais)
Les auteurs ont étudié si des salariés travaillant dans l'industrie des semi-conducteurs et exposés à des mélanges complexes de déchets chimiques subissaient une augmentation d'effets génotoxiques. Ils ont également étudié si la mise en place de mesures les protégeaient efficacement. Des analyses d'air et d'urine (fluorure) et des tests des micronoyaux ont été effectués avant et après implantation de mesures de protection. Ces mesures étaient notamment la création d'une nouvelle zone d'habillage / déshabillage, une formation active des salariés, le port de protections respiratoires et de nouvelles procédures de nettoyage des salles. Une fréquence moyenne significativement élevée a été trouvée chez les salariés exposés, tandis que les mesures dans l'air et dans les urines ne permettaient pas de détecter l'exposition aux produits chimiques. 12 ans après la mise en place des mesures de protection, le taux moyen de micronoyaux était aussi bas chez les salariés exposés que chez les témoins. Ces résultats indiquaient que les salariés de cette industrie avaient un risque élevé des effets génotoxiques dus aux mélanges de déchets chimiques. Ils indiquaient également l'efficacité des mesures de protection mises en place.
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